AlTa Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი შეკვეთით დამზადებული

სამიზნეები მზადდება ალუმინის და ტანტალის ფხვნილების შერევით ან ვაკუუმური დნობით, რასაც მოჰყვება სრული სიმკვრივის დატკეპნა.ამგვარად დატკეპნილი მასალები სურვილისამებრ აგლომერდება და შემდეგ ყალიბდება სასურველ სამიზნე ფორმაში.

ალუმინის ტანტალის სამიზნე აქვს მაღალი სისუფთავე, ერთგვაროვანი მიკროსტრუქტურა და შესანიშნავი გამტარობა.იგი ფართოდ გამოიყენება ბრტყელი პანელის ჩვენების ინდუსტრიისთვის თხელი ფილმების ფორმირებაში.ალუმინის ტანტალი ასევე შეიძლება დაემატოს მაღალი ხარისხის ტიტანის შენადნობის წარმოებას, რათა გაუმჯობესდეს მისი მაღალი ტემპერატურის შესაბამისობა.