AlZn Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი შეკვეთით დამზადებული

თუთიის სუფთა ფორმებს ხშირად იყენებენ დიდი რაოდენობით მცირე ნაწილების დასამუშავებლად მისი მაღალი სპეციფიკური სიმძიმის გამო, მაგრამ ის არ არის სასურველი მრავალი სხვა ტიპის გამოყენებისთვის, რადგან იგი ითვლება სუსტ ლითონად, რომელსაც აქვს 50 პროცენტით ნაკლები დაჭიმვის სიმტკიცე, ვიდრე ფოლადი. .თუთიის უარყოფითი თვისებების შესამცირებლად, როგორიცაა მისი დაბალი გამძლეობა და მტვრევადობა, ის ხშირად შერწყმულია ალუმინის გარკვეულ პროცენტთან.AlZn შენადნობი ავლენს კარგ სიმტკიცეს, სიმტკიცეს, ტარებას, მექანიკურ დამამშვიდებელ თვისებებს და ჩამოსხმის ეფექტურობას და ფართოდ გამოიყენება სხვადასხვა ინდუსტრიაში, მათ შორის ტარების, კასტინგის, ნავთობისა და გაზის, აერონავტიკისა და ტურბინის ჩათვლით.

ალუმინის დოპირებული თუთიის ოქსიდის (AZO) თხელი ფენა შეიძლება წარმოიქმნას ალუმინის თუთიის დაფრქვევის სამიზნის დეპონირების პროცესში.იგი გამოიყენება Low-E მინის, სენსორული პანელის, LCD ინდუსტრიაში.ალუმინის თუთიის სამიზნეს აქვს ერთი დიდი უპირატესობა კერამიკული თხრილის სამიზნესთან შედარებით მისი ხელმისაწვდომობის დიდი ზომისთვის.

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ალუმინის თუთიის სპუტტერული მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.ჩვენს პროდუქტებს აქვთ შესანიშნავი მექანიკური თვისებები, ერთგვაროვანი სტრუქტურა, გაპრიალებული ზედაპირი დანაწევრების, ფორებისა და ბზარების გარეშე.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.