საბითუმო CuMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made მწარმოებელი და მიმწოდებელი |მდიდარი

სპილენძის მოლიბდენი

CuMo Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული გამორჩეული სურათი

Მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	CuMo
კომპოზიცია	სპილენძის მოლიბდენი
სიწმინდე	99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
Წარმოების პროცესი	PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤200mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

სპილენძის მოლიბდენის დაფრქვევის სამიზნე მზადდება ინფილტრაციული აგლომერაციის გზით: მოლიბდენის ფხვნილები აგლომერდებათ და წარმოიქმნება ნახევრად მზა პროდუქტებში, კომბინირებული მიკროტალღური ღუმელის დახმარებით წყალხსნარის სტრატეგიასთან.სპილენძის მოლიბდენის შენადნობას აქვს შესანიშნავი ფიზიკური და მექანიკური თვისებები: დამაკმაყოფილებელი ელექტრული და თბოგამტარობა, თერმული გაფართოების დაბალი და რეგულირებადი კოეფიციენტი, აცვიათ წინააღმდეგობა და მაღალი ტემპერატურის სიძლიერე.

კომპოზიციები (%)	Cu	Mo	მინარევები (%)
MoCu10	10±2	Ბალანსი	≤0.1
MoCu15	15±3	Ბალანსი	≤0.1
MoCu20	20±3	Ბალანსი	≤0.1
MoCu25	25±3	Ბალანსი	≤0.1
MoCu40	40±5	Ბალანსი	≤0.1

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს სპილენძის მოლიბდენის მოლიბდენის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

წინა: CuMn Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი Custom Made

შემდეგი: CuNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made