კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს საიტებზე!

CuW Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

სპილენძის ვოლფრამი

Მოკლე აღწერა:

კატეგორია

დისკები sputtering სამიზნე

ქიმიური ფორმულა

CuW

კომპოზიცია

სპილენძის ვოლფრამი

სიწმინდე

99.9%, 99.95%, 99.99%

ფორმა

ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული

Წარმოების პროცესი

PM

ხელმისაწვდომი ზომა

L≤200mm, W≤200mm


პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

სპილენძის ვოლფრამის შენადნობის სამიზნე დამზადებულია ფხვნილის მეტალურგიის საშუალებით.სპილენძის შემცველობა ძირითადად 10%-დან 50%-მდე მერყეობს.მას აქვს შესანიშნავი თერმული და ელექტროგამტარობა, მაღალი ტემპერატურის სიმტკიცე და ელასტიურობა.ძალიან მაღალ ტემპერატურაზე, როგორიცაა 3000°C-ზე მეტი, შენადნობის სპილენძი თხევადდება და აორთქლდება, შთანთქავს დიდი რაოდენობით სითბოს და ამცირებს მასალის ზედაპირის ტემპერატურას.ამ სახის მასალას ასევე უწოდებენ ლითონის ოფლიან მასალას.

მას შემდეგ, რაც ორი ლითონი ვოლფრამი და სპილენძი შეუთავსებელია ერთმანეთთან, სპილენძ-ვოლფრამის შენადნობას აქვს დაბალი გაფართოება, აცვიათ წინააღმდეგობა, ვოლფრამის კოროზიის წინააღმდეგობა და სპილენძის მაღალი ელექტრული და თერმული კონდუქტომეტრი, და ის შესაფერისია სხვადასხვა მექანიკური დამუშავებისთვის.სპილენძის ვოლფრამის შენადნობები შეიძლება დამზადდეს მომხმარებლის მოთხოვნების შესაბამისად სპილენძ-ვოლფრამის თანაფარდობის წარმოებისა და ზომის დამუშავებისთვის.სპილენძ-ვოლფრამის შენადნობები, როგორც წესი, იყენებენ ფხვნილის მეტალურგიის პროცესებს ფხვნილის შერევით-დაჭერით ჩამოსხმის-შედუღების ინფილტრაციის მოსამზადებლად.

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნის წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს სპილენძ-ვოლფრამის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.


  • წინა:
  • შემდეგი: