საბითუმო FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made მწარმოებელი და მიმწოდებელი |მდიდარი

რკინის კობალტის ტანტალი

FeCoTa Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული გამორჩეული სურათი

Მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	FeCoTa
კომპოზიცია	რკინის კობალტის ტანტალი
სიწმინდე	99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
Წარმოების პროცესი	ვაკუუმის დნობა, PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤200mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

რკინის კობალტის ტანტალის სამიზნეები ჩვეულებრივ ხელმისაწვდომია წრიული ფორმისა და ვერტიკალური მაგნიტური ჩამწერი მედიის კრიტიკული თხელი ფირის მასალებით.შენადნობში არსებული ტანტალის მნიშვნელოვანი რაოდენობა გამოიწვევს სეგრეგაციას და წარმოქმნის გაუხსნელ ნაწილაკებს.ჩვენ ვიყენებთ წარმოების უნიკალურ მეთოდს, რომელსაც შეუძლია უზრუნველყოს მიკროსტრუქტურის ერთგვაროვნება და გააუმჯობესოს მასალების მექანიკური თვისებები.

Პროდუქტის სახელი		FeCoTa
Fe/wt%		Ბალანსი	Ბალანსი	Ბალანსი
Co/wt%		21,6±0,5	21,9±0,5	20,2±0,5
Ta/wt%		41,1±0,8	39,4±0,8	44,3±0,8
ლითონის მინარევების შემცველობა(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
გაზის მინარევების შემცველობა(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს რკინის კობალტის ტანტალის სპუტერული მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების მიხედვით.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

წინა: FeCo Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი Custom Made

შემდეგი: FeSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made