კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს საიტებზე!

NiCrCu Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული

ნიკელის ქრომის სპილენძი

Მოკლე აღწერა:

კატეგორია

დისკები sputtering სამიზნე

ქიმიური ფორმულა

NiCrCu

კომპოზიცია

ნიკელის ქრომის სპილენძი

სიწმინდე

99.5%, 99.7%, 99.9%, 99.99%

ფორმა

ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული

Წარმოების პროცესი

ვაკუუმური დნობა

ხელმისაწვდომი ზომა

L≤2000mm, W≤350mm


პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

NiCrCu Sputtering სამიზნე იწარმოება ნიკელის ქრომის სპილენძის ნედლეულის დნობისა და ჩამოსხმის შედეგად.მას აქვს მაღალი წინააღმდეგობა, დაბალი ტემპერატურის კოეფიციენტი და მაღალი მგრძნობელობა.ნიკელსა და ქრომს აქვთ მსგავსი ზედაპირის ენერგია, ხოლო NiCrCu თხელი ფენის დეპონირების შემადგენლობა მსგავსია დაფქვის სამიზნეს, ასე რომ, ადვილია დეპონირების შედეგის კონტროლი.

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ნიკელის ქრომის სპილენძის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.


  • წინა:
  • შემდეგი: