WNi Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი შეკვეთით დამზადებული

ვოლფრამის მოლიბდენის შენადნობის სამიზნე დამზადებულია ფხვნილის მეტალურგიის ვაკუუმური დნობის საშუალებით.ვოლფრამის შემცველობა ძირითადად 30%-დან 50%-მდე მერყეობს.ვოლფრამის მოლიბდენის სამიზნეები ხელმისაწვდომია სხვადასხვა გეომეტრიული ფორმით: ღერო, ფირფიტა, მავთული ან სხვა მორგებული ფორმები დიზაინის ქაღალდის მიხედვით.

ვოლფრამის მოლიბდენის შენადნობი არის კრიტიკული მასალა, რომელიც გამოიყენება ელექტრონიკაში, კოსმოსში, იარაღსა და სხვა სფეროებში.ვოლფრამის მოლიბდენის შენადნობი ვოლფრამის 30% შემცველობით აქვს შესანიშნავი კოროზიის წინააღმდეგობა თხევადი თუთიის მიმართ და გამოიყენება აგიტატორების, მილებისა და კონტეინერების გარსაცმების და თუთიის დნობის ინდუსტრიის სხვა კომპონენტების წარმოებაში.ვოლფრამის მოლიბდენს აქვს მაღალი ტემპერატურის ვარგისიანობა და მსუბუქი წონა, ამიტომ ნებისმიერ აპლიკაციას ან ინდუსტრიას, რომელიც ამუშავებს აღჭურვილობას მაღალ ტემპერატურაზე, შეუძლია ისარგებლოს W-Mo შენადნობების გამოყენებით, როგორიცაა რაკეტები და რაკეტების კომპონენტები, ძაფის წრე და სხვა მაღალი ტემპერატურის მასალები.

Rich Special Materials არის Sputtering Target-ის მწარმოებელი და შეუძლია აწარმოოს ვოლფრამის მოლიბდენის მოლიბდენის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების მიხედვით.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.