ZrSi შენადნობის დახშობის სამიზნე მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის PVD საფარი შეკვეთით დამზადებული

ცირკონიუმის სილიკონის დაფქვილი სამიზნე დამზადებულია ვაკუუმური დნობის და ენერგეტიკული მეტალურგიის საშუალებით.

ცირკონიუმს შეუძლია გააუმჯობესოს სიმტკიცე და კოროზიის წინააღმდეგობა.

ცირკონიუმის სილიკონის სამიზნე დაბალი ელექტროგამტარობითაა და შეუძლია შეამციროს ნარჩენი სტრესი, რაც გააუმჯობესებს საფარის სტაბილურობას და გაახანგრძლივებს ექსპლუატაციას.საფარები შეიძლება გამოყენებულ იქნას Low-E მინაზე მისი მაღალი კონსისტენციისა და კოროზიის წინააღმდეგობის ქცევისთვის.

სუფთა სილიკონთან შედარებით, ცირკონიუმის სილიკონის მაღალი სისუფთავის სამიზნეებს შეუძლიათ მნიშვნელოვნად გააუმჯობესონ დეპონირებული საფარის ხახუნის წინააღმდეგობა 4-6-ჯერ.

ამიტომ, Zr-Si ხელმისაწვდომია მრავალი პრაქტიკული გამოყენებისთვის.

Rich Special Materials არის Sputtering Target-ის მწარმოებელი და შეუძლია აწარმოოს ცირკონიუმის სილიკონის სპუტერული მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.