სამიზნეების აპლიკაციის ველები

როგორც ჩვენ ყველამ ვიცით, არსებობს მრავალი სპეციფიკაცია დახვეწილი სამიზნეებისთვის და მათი გამოყენების სფეროები ასევე ძალიან ფართოა.ასევე განსხვავებულია სამიზნეების ტიპები, რომლებიც ჩვეულებრივ გამოიყენება სხვადასხვა სფეროში.დღეს, მოდით გაეცნოთ sputtering სამიზნე განაცხადის ველების კლასიფიკაციას RSM-ის რედაქტორთან!

　　1, sputtering სამიზნის განმარტება

წვრილი ფირის მასალების მომზადების ერთ-ერთი მთავარი ტექნოლოგიაა სპტერინგი.ის იყენებს იონის წყაროს მიერ გამომუშავებულ იონებს, რათა დააჩქაროს და იკრიბება ვაკუუმში, რათა შექმნას მაღალსიჩქარიანი იონური სხივი, დაბომბეს მყარი ზედაპირი და იონები ცვლიან კინეტიკურ ენერგიას მყარ ზედაპირზე არსებულ ატომებთან, ისე რომ ატომები მყარ ზედაპირზე. ზედაპირი გამოყოფილია მყარისაგან და დეპონირებულია სუბსტრატის ზედაპირზე.დაბომბვადი მყარი არის ნედლეულის მოსამზადებლად თხელი ფირის მოსამზადებლად, რომელიც დეპონირებულია sputtering სამიზნე.

　　2, sputtering სამიზნე განაცხადის ველების კლასიფიკაცია

　1. ნახევარგამტარული სამიზნე

(1) საერთო სამიზნეები: საერთო სამიზნეები ამ სფეროში მოიცავს მაღალი დნობის წერტილის ლითონებს, როგორიცაა ტანტალი / სპილენძი / ტიტანი / ალუმინი / ოქრო / ნიკელი.

(2) გამოყენება: ძირითადად გამოიყენება როგორც ძირითადი ნედლეული ინტეგრირებული სქემებისთვის.

(3) შესრულების მოთხოვნები: მაღალი ტექნიკური მოთხოვნები სისუფთავის, ზომის, ინტეგრაციის და ა.შ.

　　2. სამიზნე ბრტყელი პანელის ჩვენებისთვის

(1) საერთო სამიზნეები: ამ სფეროში გავრცელებული სამიზნეებია ალუმინი / სპილენძი / მოლიბდენი / ნიკელი / ნიობიუმი / სილიკონი / ქრომი და ა.შ.

(2) გამოყენება: ამ ტიპის სამიზნე ძირითადად გამოიყენება სხვადასხვა ტიპის დიდი ფართის ფილმებისთვის, როგორიცაა ტელევიზორები და ნოუთბუქები.

(3) შესრულების მოთხოვნები: მაღალი მოთხოვნები სისუფთავის, დიდი ფართობის, ერთგვაროვნების და ა.შ.

　　3. სამიზნე მასალა მზის ელემენტისთვის

(1) საერთო სამიზნეები: ალუმინი / სპილენძი / მოლიბდენი / ქრომი / ITO / Ta და მზის უჯრედების სხვა სამიზნეები.

(2) გამოყენება: ძირითადად გამოიყენება "ფანჯრის ფენაში", ბარიერის ფენაში, ელექტროდსა და გამტარ ფილმში.

(3) შესრულების მოთხოვნები: მაღალი ტექნიკური მოთხოვნები და გამოყენების ფართო სპექტრი.

　　4. სამიზნე ინფორმაციის შესანახად

(1) საერთო სამიზნეები: კობალტის / ნიკელის / ფეროშენადნობების / ქრომის / ტელურუმის / სელენის და სხვა მასალების საერთო სამიზნეები ინფორმაციის შესანახად.

(2) გამოყენება: ამ ტიპის სამიზნე მასალა ძირითადად გამოიყენება ოპტიკური დისკის და ოპტიკური დისკის მაგნიტური თავის, შუა ფენისა და ქვედა ფენისთვის.

(3) შესრულების მოთხოვნები: საჭიროა შენახვის მაღალი სიმკვრივე და გადაცემის მაღალი სიჩქარე.

　　5. სამიზნე ხელსაწყოს მოდიფიკაციისთვის

(1) საერთო სამიზნეები: ჩვეულებრივი სამიზნეები, როგორიცაა ტიტანის / ცირკონიუმის / ქრომის ალუმინის შენადნობი შეცვლილი ხელსაწყოებით.

(2) გამოყენება: ჩვეულებრივ გამოიყენება ზედაპირის გასაძლიერებლად.

(3) შესრულების მოთხოვნები: მაღალი შესრულების მოთხოვნები და ხანგრძლივი მომსახურების ვადა.

　　6. სამიზნეები ელექტრონული მოწყობილობებისთვის

(1) საერთო სამიზნეები: საერთო ალუმინის შენადნობის / სილიციდის სამიზნეები ელექტრონული მოწყობილობებისთვის

(2) დანიშნულება: ზოგადად გამოიყენება თხელი ფირის რეზისტორებისა და კონდენსატორებისთვის.

(3) შესრულების მოთხოვნები: მცირე ზომა, სტაბილურობა, დაბალი წინააღმდეგობის ტემპერატურის კოეფიციენტი