მაგნიტრონის დახშობის სამიზნეების კლასიფიკაცია და გამოყენება

　　1. მაგნიტრონის დაფრქვევის მეთოდი:

მაგნიტრონის ნახვრეტი შეიძლება დაიყოს მუდმივ დაფშვნად, საშუალო სიხშირეზე და RF ნახვრეტად.

A. DC sputtering ელექტრომომარაგება იაფია და დეპონირებული ფილმის სიმკვრივე ცუდია.ზოგადად, საყოფაცხოვრებო ფოტოთერმული და თხელფილიანი ბატარეები გამოიყენება დაბალი ენერგიით, ხოლო დაფქვილი სამიზნე არის გამტარ ლითონის სამიზნე.

B. RF sputtering ენერგია არის მაღალი, და sputtering სამიზნე შეიძლება იყოს არაგამტარი სამიზნე ან გამტარი სამიზნე.

გ. საშუალო სიხშირის ჭურვის სამიზნე შეიძლება იყოს კერამიკული სამიზნე ან ლითონის სამიზნე.

　　2. თხრილის სამიზნეების კლასიფიკაცია და გამოყენება

არსებობს მრავალი სახის სამიზნე და სამიზნე კლასიფიკაციის მეთოდები ასევე განსხვავებულია.ფორმის მიხედვით იყოფა გრძელ სამიზნედ, კვადრატულ სამიზნედ და მრგვალ სამიზნედ;შემადგენლობის მიხედვით შეიძლება დაიყოს ლითონის სამიზნე, შენადნობის სამიზნე და კერამიკული ნაერთი სამიზნე;აპლიკაციის სხვადასხვა სფეროს მიხედვით, ის შეიძლება დაიყოს ნახევარგამტარებთან დაკავშირებულ კერამიკულ სამიზნეებად, საშუალო კერამიკული სამიზნეების ჩამწერად, კერამიკული სამიზნეების გამოსახულებით და ა.შ. ჭურვის სამიზნეები ძირითადად გამოიყენება ელექტრონულ და საინფორმაციო ინდუსტრიებში, როგორიცაა ინფორმაციის შენახვის ინდუსტრია.ამ ინდუსტრიაში, sputtering სამიზნეები გამოიყენება შესაბამისი თხელი ფილმის პროდუქტების მოსამზადებლად (მყარი დისკი, მაგნიტური თავი, ოპტიკური დისკი და ა.შ.).Ამჟამად.საინფორმაციო ინდუსტრიის უწყვეტი განვითარებასთან ერთად იზრდება მოთხოვნა ბაზარზე საშუალო კერამიკული სამიზნეების ჩაწერაზე.ვრცელი ყურადღების ცენტრში მოექცა ჩამწერი საშუალო სამიზნეების კვლევა და წარმოება.