რა არის მიზნის შესრულების მოთხოვნები

სამიზნეს აქვს ფართო ბაზარი, გამოყენების არეალი და დიდი განვითარება მომავალში.იმისათვის, რომ დაგეხმაროთ უკეთ გაიგოთ სამიზნე ფუნქციები, ქვემოთ RSM ინჟინერი მოკლედ გაგაცნობთ სამიზნის ძირითად ფუნქციურ მოთხოვნებს.

სისუფთავე: სისუფთავე არის სამიზნის ერთ-ერთი მთავარი ფუნქციური მაჩვენებელი, რადგან სამიზნის სისუფთავე დიდ გავლენას ახდენს ფილმის ფუნქციაზე.თუმცა, პრაქტიკულ გამოყენებაში, სამიზნის სისუფთავის მოთხოვნები ასევე განსხვავებულია.მაგალითად, მიკროელექტრონული ინდუსტრიის სწრაფი განვითარებით, სილიკონის ვაფლის ზომა გაფართოვდა 6 “8″-დან 12”-მდე, ხოლო გაყვანილობის სიგანე მცირდება 0.5um-დან 0.25um-მდე, 0.18um ან თუნდაც 0.13um.ადრე, სამიზნე სისუფთავის 99,995%-ს შეუძლია დააკმაყოფილოს პროცესის მოთხოვნები 0,35umic, ხოლო 0,18um ხაზების მომზადება მოითხოვს სამიზნე სისუფთავის 99,999%-ს ან თუნდაც 99,9999%-ს.

მინარევების შემცველობა: მინარევები სამიზნე მყარ ნივთიერებებში და ჟანგბადი და წყლის ორთქლი ფორებში არის დეპონირებული ფილმების დაბინძურების ძირითადი წყაროები.სხვადასხვა დანიშნულების სამიზნეებს განსხვავებული მოთხოვნები აქვთ სხვადასხვა მინარევების შემცველობის მიმართ.მაგალითად, სუფთა ალუმინის და ალუმინის შენადნობის სამიზნეებს, რომლებიც გამოიყენება ნახევარგამტარულ ინდუსტრიაში, აქვთ სპეციალური მოთხოვნები ტუტე ლითონის შემცველობაზე და რადიოაქტიური ელემენტის შემცველობაზე.

სიმკვრივე: იმისათვის, რომ შემცირდეს ფორები სამიზნე მყარში და გააუმჯობესოს დაფხვნილის ფირის ფუნქცია, სამიზნე ჩვეულებრივ უნდა ჰქონდეს მაღალი სიმკვრივე.სამიზნის სიმკვრივე გავლენას ახდენს არა მხოლოდ დაფქვის სიჩქარეზე, არამედ გავლენას ახდენს ფილმის ელექტრულ და ოპტიკურ ფუნქციებზე.რაც უფრო მაღალია სამიზნე სიმკვრივე, მით უკეთესია ფილმის ფუნქცია.გარდა ამისა, გაუმჯობესებულია სამიზნის სიმკვრივე და სიძლიერე ისე, რომ სამიზნემ უკეთესად მიიღოს თერმული სტრესი დახრჩობის პროცესში.სიმკვრივე ასევე არის სამიზნის ერთ-ერთი მთავარი ფუნქციური მაჩვენებელი.