რა როლი აკისრია დახვეწილ სამიზნეს ვაკუუმურ საფარში

მტვერსასრუტი სამიზნე მასალების შერჩევისას ხალხის პრობლემას წარმოადგენდა დღესდღეობით, რადგან დაფხვნილის საფარი, განსაკუთრებით მაგნიტრონის დაფარვის უნარების განვითარება, შეიძლება ითქვას, რომ ნებისმიერი ინფორმაცია შეიძლება მიზანმიმართული იყოს თხელი ფენების მასალის მომზადებისთვის. იონური დაბომბვით, რადგან დაფარვის პროცესში სამიზნე მასალის სუბსტრატის სახეობაზე გადაყრა მნიშვნელოვან გავლენას ახდენს დაფქული ფირის ხარისხზე, შესაბამისად, სამიზნე მასალის მოთხოვნები უფრო მკაცრია.აქ ჩვენ გავეცნობით სამიზნის როლს ვაკუუმურ საფარში პეკინის რელაქსაციის რედაქტორთან ერთად.

一、სამიზნე მასალის შერჩევის პრინციპი და კლასიფიკაცია

სამიზნე მასალის შერჩევისას, გარდა იმისა, რომ თავად ფილმის გამოყენება უნდა შეირჩეს, გასათვალისწინებელია შემდეგი პრობლემებიც:

ამოცანა 1. მემბრანის გამოყენებისა და შესრულების მოთხოვნების მიხედვით აუცილებელია სამიზნე მასალა აკმაყოფილებდეს ტექნიკურ მოთხოვნებს სისუფთავის, ჟურნალის შემცველობის, კომპონენტის ერთგვაროვნების, დამუშავების სიზუსტისა და ა.შ.

ამოცანა 2. სამიზნე მასალას უნდა ჰქონდეს კარგი მექანიკური სიმტკიცე და ქიმიური მდგრადობა ფირის ფორმირების შემდეგ;

ამოცანა 3. აუცილებელია, რომ ფირის მასალამ ადვილად წარმოქმნას ნაერთი ფირი რეაქტიული გაზით, როგორც რეაქტიული გამაფხვიერებელი ფილმი;

ამოცანა 4. აუცილებელია სამიზნის დაყენება და მატრიცა მყარად, წინააღმდეგ შემთხვევაში, მატრიცასთან კარგი გადაბმის მქონე ფირის მასალა უნდა იქნას მიღებული, ჯერ ქვედა ფირის ფენა დაასხით და შემდეგ მოამზადეთ საჭირო ფირის ფენა;

კითხვა 5. ფილმის შესრულების მოთხოვნების დაკმაყოფილების წინაპირობაზე, რაც უფრო მცირეა სხვაობა სამიზნისა და მატრიცის თერმული გაფართოების კოეფიციენტს შორის, მით უკეთესი, რათა შემცირდეს დაფქვილი ფირის თერმული სტრესის გავლენა;

რამდენიმე ხშირად გამოყენებული სამიზნის მომზადება

(1) კრ სამიზნე

ქრომი, როგორც დამღლელი ფირის მასალა, არა მხოლოდ ადვილად შერწყმულია საბაზისო მასალასთან, აქვს მაღალი ადჰეზია, ხოლო ქრომის და ოქსიდის CrQ3 ფილმი, მისი მექანიკური თვისებები, მჟავა წინააღმდეგობა და თერმული სტაბილურობა უკეთესია.

Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. ძირითადად დაკავებულია: ტიტანის სამიზნე ცირკონიუმის სამიზნე, ალუმინის სამიზნე, ნიკელის სამიზნე, ქრომის სამიზნე, ვოლფრამის სამიზნე, მოლიბდენის სამიზნე, სპილენძის სამიზნე, სილიკონის სამიზნე, ნიობიუმის სამიზნე, ტანტალის სამიზნე, ტიტან-სილიციუმის შენადნობი. სამიზნე, ტიტან-ნიობიუმის შენადნობის სამიზნე, ტიტან-ვოლფრამის შენადნობის სამიზნე, ტიტან-ცირკონიუმის შენადნობის სამიზნე, ნიკელ-ქრომის შენადნობის სამიზნე, სილიციუმ-ალუმინის შენადნობის სამიზნე, ნიკელ-ვანადიუმის შენადნობის სამიზნე, ქრომი-ალუმინის-სილიციუმის სამჯერადი შენადნობის სამიზნე. სამჯერადი შენადნობის სამიზნე მასალა, ფართოდ გამოიყენება დეკორაციის/მყარი ზედაპირის და ფუნქციური საფარის, არქიტექტურული მინის, ბრტყელი ჩვენების/ოპტიკური ფოტოელექტრული, ოპტიკური შესანახი, ელექტრონიკის, ბეჭდვისა და სხვა პროფესიებში.