რომელ ველებში გამოიყენება თხრილის სამიზნეები

ჩვენ ყველამ ვიცით, რომ არსებობს მრავალი სპეციფიკაცია სამიზნეზე,რომელსაც აქვს awგანაცხადის იდე დიაპაზონი.Tის სამიზნე ჯიშები, რომლებიც ხშირად გამოიყენება სხვადასხვა ინდუსტრიაში, ასევე განსხვავებულია, დღეს მოდით თან პეკინირიჩმათი ერთად გაეცნონ sputtering სამიზნე ინდუსტრიის კლასიფიკაციას. 

შენ,სამიზნე მასალის დაფრქვევის განმარტება

　წვრილი ფირის მასალების მომზადების ერთ-ერთი მთავარი ტექნოლოგიაა სპტერინგი.ის იყენებს იონის წყაროს მიერ გამომუშავებულ იონებს, რათა წარმოქმნას იონური სხივი მაღალი სიჩქარით ენერგიით ვაკუუმში დაჩქარებული აგრეგაციის გზით. დაბომბვის მყარ ზედაპირს, იონებს და მყარი ზედაპირის ატომებს აქვთ კინეტიკური ენერგიის გაცვლა, ასე რომ მყარ ზედაპირზე ატომები ტოვებენ მყარს და დეპონირდება. სუბსტრატის ზედაპირი, დაბომბვა მყარი არის ნედლეულის მოსამზადებლად დაფხვნილი დეპონირებული ფილმი, რომელიც ცნობილია როგორც sputtering სამიზნე.

შენ,სამიზნე მასალების აპლიკაციის ველი კლასიფიკაცია

　　1,ნახევარგამტარული სამიზნე

(1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ამ სფეროში გავრცელებული სამიზნეებია ტანტალი, სპილენძი, ტიტანი, ალუმინი, ოქრო, ნიკელი და სხვა მაღალი დნობის წერტილის ლითონები.

　　(2)გამოყენება:ძირითადად გამოიყენება ინტეგრირებული მიკროსქემის გადამწყვეტი ორიგინალური მონაცემებისთვის

　　(3)ფუნქციური მოთხოვნები:ტექნიკური მოთხოვნები სისუფთავის, ზომის, ინტეგრაციის შესახებ მაღალია.

　　2,სამიზნე მასალა გეგმიური ჩვენებისთვის

　　(1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ამ სფეროში ჩვეულებრივ გამოყენებული სამიზნეებია ალუმინი/სპილენძი/მოლიბდენი/ნიკელი/ნიობიუმი/სილიციუმი/ქრომი და ა.შ.

　　(2)გამოყენება:ამ ტიპის სამიზნე მასალა ძირითადად გამოიყენება ტელევიზორისა და ნოუთბუქის სხვადასხვა ტიპის დიდი ფართობის ფილმებში.

　　(3)ფუნქციური მოთხოვნები:მაღალი მოთხოვნები სისუფთავეზე, დიდ ფართობზე, ერთგვაროვნებაზე და ა.შ.

　　3,სამიზნეები მზის უჯრედებისთვის

(1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ალუმინის / სპილენძის / მოლიბდენის / ქრომის / ITO / Ta სამიზნეები ჩვეულებრივ გამოიყენება მზის უჯრედებში.

　　(2)გამოყენება:ძირითადად გამოიყენება "ფანჯრის ფენაში", ბარიერის ფენაში, ელექტროდსა და გამტარ ფილმში და სხვა შემთხვევებში.

　　(3)ფუნქციური მოთხოვნები:მაღალი კვალიფიკაციის მოთხოვნა, გამოყენების ფართო სპექტრი.

　　4,სამიზნე მასალა ინფორმაციის შესანახად

　　(1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ინფორმაციის შესანახად გამოყენებული სამიზნე მასალები კობალტი/ნიკელი/ფეროშენადნობი/ქრომი/ტელურიუმი/სელენი.

　　(2)გამოყენება:სამიზნე მასალა აქ ძირითადად გამოიყენება cd-rom-ისა და CD-ის ხელმძღვანელის, შუა ფენისა და ქვედა ფენისთვის.

　 (3) ფუნქციონალური მოთხოვნები:საჭიროა შენახვის მაღალი სიმკვრივე და მაღალი გადაცემის სიჩქარე.

　　5,სამიზნე მასალა ხელსაწყოს მოდიფიკაციისთვის

(1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ტიტანის/ცირკონიუმის/ლატის/ქრომ-ალუმინის შენადნობის და სხვა სამიზნეების ხელსაწყოს მოდიფიკაცია.

　　(2)გამოყენება:ჩვეულებრივ გამოიყენება გარეგნობის გასაუმჯობესებლად.

　　(3)ფუნქციური მოთხოვნები:მაღალი ფუნქციონალური მოთხოვნები, ხანგრძლივი მომსახურების ვადა.

　　6,სამიზნე მასალები ელექტრონული მოწყობილობებისთვის

　 (1)ხშირად გამოყენებული მასალა:ალუმინის შენადნობის/სილიციდის სამიზნეები ჩვეულებრივ გამოიყენება ელექტრონულ მოწყობილობებში

　　(2)გამოყენება:ძირითადად გამოიყენება ფილმის რეზისტორებისა და კონდენსატორებისთვის.

　　(3)ფუნქციური მოთხოვნები:მცირე ზომა, სტაბილურობა, დაბალი წინააღმდეგობის ტემპერატურის კოეფიციენტი