საბითუმო ცხელი გაყიდვების ქარხანა ჩინეთის ქრომის შენადნობის სპუტტერინგი სამიზნე ჩათვლით Alcr Nicr Cralsi სამიზნე მწარმოებელი და მიმწოდებელი |მდიდარი

ქრომის ალუმინი

ცხელი იყიდება ქარხანა ჩინეთის ქრომის შენადნობის სამიზნე, მათ შორის Alcr Nicr Cralsi სამიზნე გამორჩეული სურათი

Მოკლე აღწერა:

კატეგორია	დისკები sputtering სამიზნე
ქიმიური ფორმულა	CrAl
კომპოზიცია	ქრომის ალუმინი
სიწმინდე	99.7%, 99.9%, 99.95%, 99.99%
ფორმა	ფირფიტები, სვეტის სამიზნეები, რკალის კათოდები, შეკვეთით დამზადებული
Წარმოების პროცესი	ვაკუუმის დნობა, PM
ხელმისაწვდომი ზომა	L≤2000mm, W≤200mm

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

ჩვენ ვაძლევთ კარგ ძალას მაღალ ხარისხში და პროგრესში, ვაჭრობაში, შემოსავალში და ინტერნეტ მარკეტინგისა და ექსპლუატაციისთვის Hot sale Factory China Chromium Alloy Sputtering Target ჩათვლით Alcr Nicr Cralsi Target, ჩვენ ვიმედოვნებთ, რომ დავამყარებთ დამატებით ორგანიზაციულ ურთიერთქმედებას პერსპექტიულებთან მთელ მსოფლიოში.
ჩვენ ვაძლევთ კარგ ძალას მაღალ ხარისხში და პროგრესში, ვაჭრობაში, შემოსავალში და ინტერნეტ მარკეტინგისა და ფუნქციონირებისთვისჩინეთის Alcr შენადნობის სამიზნე, Cral შენადნობის სამიზნე, ჩვენ მტკიცედ ვფიქრობთ, რომ ახლა გვაქვს სრული შესაძლებლობა მოგაწოდოთ კმაყოფილი საქონელი.გსურთ შეაგროვოთ საზრუნავი თქვენში და შექმნათ ახალი გრძელვადიანი სინერგიული რომანტიული ურთიერთობა.ჩვენ ყველა მნიშვნელოვნად გპირდებით: იგივე შესანიშნავი, უკეთესი გასაყიდი ფასი;ზუსტი გასაყიდი ფასი, უკეთესი ხარისხი.
ქრომის ალუმინის სამიზნეების დამზადება მოიცავს შემდეგ ნაბიჯებს:

1. ფხვნილი სახეხი და შერევა.

2. ცხელი იზოსტატიკური დაწნეხვის დამუშავება ნახევარფაბრიკატების მისაღებად.

3. ქრომის ალუმინის შენადნობის უხეში სამიზნე მასალის დამუშავება ქრომის ალუმინის შენადნობის სამიზნე მასალის მისაღებად.

CrAl დაფქვის სამიზნეების დეპონირების პროცესში წარმოიქმნება მყარი ალუმინის-ქრომ-ნიტრიდის (AlCrN) საფარი.ეს საფარი ავლენს მაღალ სიმტკიცეს და ჟანგვის წინააღმდეგობის თვისებებს მაღალ ტემპერატურაზეც კი.საჭრელები შეიძლება მუშაობდნენ მაღალ კვებაზე, რათა გაზარდონ პროდუქტიულობა და გაზარდონ ხარისხი CNC მანქანების გამოყენებისას.

ჩვენი ტიპიური AlCr სამიზნეები და მათი თვისებები

	Cr-70Al%	Cr-60Al%	Cr-50Al%
სისუფთავე (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
სიმკვრივე (გ/სმ³)	3.7	4.35	4.55
მარცვლის ზომა (მკმ)	100/50	100/50	100/50
პროცესი	HIP	HIP	HIP

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ქრონიუმის ალუმინის სპუტტერული მასალები და სხვა CrAl სერიები (მაგალითად: CrAlSi, CrAlTi, CrAlZr, CrAlTa, CrAlW, CrAl, სპეციფიკაციების მიხედვით, CrAl, CrAl).ჩვენს პროდუქტებს აქვთ შესანიშნავი მექანიკური თვისებები, ერთგვაროვანი სტრუქტურა, გაპრიალებული ზედაპირი დანაწევრების, ფორებისა და ბზარების გარეშე.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ.

ჩვენი ტიპიური AlCr სამიზნეები და მათი თვისებები

	Cr-70Al%	Cr-60Al%	Cr-50Al%
სისუფთავე (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
სიმკვრივე (გ/სმ³)	3.7	4.35	4.55
მარცვლის ზომა (მკმ)	100/50	100/50	100/50
პროცესი	HIP	HIP	HIP

Rich Special Materials სპეციალიზირებულია სამიზნე სამიზნეების წარმოებაში და შეუძლია აწარმოოს ალუმინის ქრომის თხრილის მასალები მომხმარებელთა სპეციფიკაციების შესაბამისად.ჩვენს პროდუქტებს აქვთ შესანიშნავი მექანიკური თვისებები, ერთგვაროვანი სტრუქტურა, გაპრიალებული ზედაპირი დანაწევრების, ფორებისა და ბზარების გარეშე.დამატებითი ინფორმაციისთვის გთხოვთ დაგვიკავშირდეთ. ჩვენ ვაძლევთ კარგ ძალას მაღალ ხარისხში და პროგრესში, ვაჭრობაში, შემოსავალში და ინტერნეტ მარკეტინგისა და ექსპლუატაციაში Hot sale Factory China Chromium Alloy Sputtering Target ჩათვლით Alcr Nicr Cralsi Target, ვიმედოვნებთ, რომ დავამყაროთ დამატებითი ორგანიზაციული ურთიერთქმედება პერსპექტივები მთელ მსოფლიოში.
ცხელი იყიდება ქარხანაჩინეთის Alcr შენადნობის სამიზნე, Cral შენადნობის სამიზნე, ჩვენ მტკიცედ ვფიქრობთ, რომ ახლა გვაქვს სრული შესაძლებლობა მოგაწოდოთ კმაყოფილი საქონელი.გსურთ შეაგროვოთ საზრუნავი თქვენში და შექმნათ ახალი გრძელვადიანი სინერგიული რომანტიული ურთიერთობა.ჩვენ ყველა მნიშვნელოვნად გპირდებით: იგივე შესანიშნავი, უკეთესი გასაყიდი ფასი;ზუსტი გასაყიდი ფასი, უკეთესი ხარისხი.

წინა: ODM მწარმოებელი ჩინეთის Crco ფირფიტა ქრომის კობალტის შენადნობის სამიზნე

შემდეგი: ყველაზე იაფი ქარხანა ჩინეთის ACETRON 3N 99.9% მაღალი სისუფთავის Ni Planar Sputtering Target for ვაკუუმი/PVD საფარი