V Sputtering Target მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის Pvd საფარი Custom Made
ვანადიუმი
Vanadium Sputtering სამიზნე აღწერა
ვანადიუმი არის მყარი, დრეკადი ლითონი მოვერცხლისფრო-ნაცრისფერი გარეგნობით.ის უფრო რთულია ვიდრე მეტალების უმეტესობა და ავლენს კარგ კოროზიის წინააღმდეგობას ტუტეებისა და მჟავების მიმართ.მისი დნობის წერტილი არის 1890℃, ხოლო დუღილის წერტილი არის 3380℃.მისი ატომური ნომერია 23, ატომური წონა კი 50,9414.მას აქვს სახეზე ორიენტირებული კუბური სტრუქტურა და ჟანგვის მდგომარეობები მის ნაერთებში +5, +4, +3 და +2.მას აქვს მაღალი დნობის წერტილი, ელასტიურობა, სიმტკიცე და კოროზიის წინააღმდეგობა.
ვანადიუმი ფართოდ გამოიყენება მრავალ ინდუსტრიაში და აპლიკაციებში, როგორიცაა რეაქტიული ძრავები, მაღალი სიჩქარის საჰაერო ჩარჩოები, ბირთვული რეაქტორები და ფოლადის შენადნობი.
მაღალი სისუფთავის ვანადიუმის დაფქვის სამიზნე არის კრიტიკული მასალა მზის უჯრედებისა და ოპტიკური ლინზების საფარისთვის.
Ქიმიური ანალიზი
| სიწმინდე | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
| Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
| C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
| უბიწოება სულ | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
Vanadium Sputtering Target Packaging
ჩვენი ვანადიუმის დახშობის სამიზნე მკაფიოდ არის მონიშნული და მონიშნული გარედან, ეფექტური იდენტიფიკაციისა და ხარისხის კონტროლის უზრუნველსაყოფად.დიდი სიფრთხილეა მიღებული, რათა თავიდან იქნას აცილებული ნებისმიერი დაზიანება, რომელიც შეიძლება გამოწვეული იყოს შენახვის ან ტრანსპორტირების დროს.
მიიღეთ კონტაქტი
RSM-ის ვანადიუმის სამიზნეები გთავაზობთ შესანიშნავი სისუფთავეს და თანმიმდევრულობას.ისინი ხელმისაწვდომია სხვადასხვა ფორმით, სიწმინდით, ზომებით და ფასებით.ჩვენ სპეციალიზირებულნი ვართ მაღალი სისუფთავის თხელი ფირის საფარის მასალებში შესანიშნავი თვისებებით, ასევე უმაღლესი შესაძლო სიმკვრივით და ყველაზე მცირე საშუალო ზომის მარცვლეულის საფარისთვის, დეკორაციისთვის, საავტომობილო ნაწილებისთვის, დაბალი E მინის, ნახევარგამტარული ინტეგრირებული სქემებისთვის, თხელი ფირის რეზისტორებისთვის, გრაფიკული დისპლეებისთვის. , აერონავტიკა, მაგნიტური ჩაწერა, სენსორული ეკრანები, თხელი ფირის მზის უჯრედები და სხვა ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) აპლიკაციები.გთხოვთ, გამოგვიგზავნოთ მოთხოვნა დაფქვის სამიზნეებზე და სხვა დეპონირების მასალებზე, რომლებიც არ არის ჩამოთვლილი.
